對(duì)于企業(yè)來說，由于在研發(fā)項(xiàng)目的過程中需要解決大量的問題，因此，研發(fā)項(xiàng)目是企業(yè)日?；顒?dòng)中創(chuàng)新點(diǎn)密度最高的區(qū)域，應(yīng)作為專利挖掘的重點(diǎn)對(duì)象。

企業(yè)研發(fā)項(xiàng)目的特點(diǎn)

企業(yè)研發(fā)項(xiàng)目主要具有以下三個(gè)特點(diǎn)：

1、復(fù)雜性。一是研發(fā)項(xiàng)目?jī)?nèi)涵復(fù)雜，尤其是對(duì)于大型研發(fā)項(xiàng)目，需要涉及不同領(lǐng)域的不同理論和制造技術(shù);二是研發(fā)項(xiàng)目外延復(fù)雜，需要涉及采購、生產(chǎn)、市場(chǎng)、知識(shí)產(chǎn)權(quán)等因素。

2、系統(tǒng)性。從項(xiàng)目的概要設(shè)計(jì)、詳細(xì)設(shè)計(jì)，到零部件首樣制造、組裝、測(cè)試、生產(chǎn)等，都屬于研發(fā)項(xiàng)目的范疇。

3、不確定性。一是項(xiàng)目需求的不確定性;二是技術(shù)實(shí)現(xiàn)的不確定性;三是進(jìn)度計(jì)劃的不確定性。

基于項(xiàng)目研發(fā)的專利挖掘手段的特點(diǎn)

根據(jù)企業(yè)研發(fā)項(xiàng)目的特點(diǎn)，基于研發(fā)項(xiàng)目的專利挖掘手段相應(yīng)地具有以下三個(gè)方面：

1、以技術(shù)分析為基礎(chǔ)。由于企業(yè)研發(fā)項(xiàng)目具有復(fù)雜性的特點(diǎn)，那么針對(duì)基于研發(fā)項(xiàng)目的專利挖掘，首先要從技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目出發(fā)進(jìn)行技術(shù)分析，即按照研發(fā)項(xiàng)目需要達(dá)到的技術(shù)效果或技術(shù)架構(gòu)進(jìn)行逐級(jí)拆分，直至每個(gè)技術(shù)點(diǎn)。這種拆分側(cè)重分解和細(xì)化，以達(dá)到梳理技術(shù)分支、把握技術(shù)要素、明確創(chuàng)新節(jié)點(diǎn)的目的。

2、貫穿研發(fā)項(xiàng)目始終。由于企業(yè)研發(fā)項(xiàng)目具有系統(tǒng)性的特點(diǎn)，在其所涉及的每一個(gè)環(huán)節(jié)、每一個(gè)方面都應(yīng)該是基于研發(fā)項(xiàng)目的專利挖掘手段應(yīng)當(dāng)關(guān)注的重點(diǎn)。貫穿研發(fā)項(xiàng)目始終的專利挖掘節(jié)點(diǎn)和專利產(chǎn)出類型如圖1所示。

圖1基于研發(fā)項(xiàng)目的專利挖掘節(jié)點(diǎn)和專利產(chǎn)出類型

3、服從企業(yè)專利戰(zhàn)略。企業(yè)研發(fā)項(xiàng)目具有不確定性的特點(diǎn)，但對(duì)于基于研發(fā)項(xiàng)目的專利挖掘工作來說，必須要從服從企業(yè)專利戰(zhàn)略的高度出發(fā)，明確專利挖掘工作的對(duì)象。

總結(jié)以上理論基礎(chǔ)，得到如表1所示的內(nèi)容。

表1企業(yè)研發(fā)項(xiàng)目的特點(diǎn)與專利挖掘方法特點(diǎn)對(duì)比表

案例

圖2所示為OPPO在VOOC閃充技術(shù)方面截止2016年3月公開的專利分布情況，分別涉及閃充技術(shù)的充電電流控制、電路形式設(shè)置以及充電電路保護(hù)等技術(shù)分支。

圖2OPPO在VOOC閃充技術(shù)方面的專利分布情況

灰色背景所示內(nèi)容為相應(yīng)層級(jí)的核心內(nèi)容，例如，在技術(shù)分支層級(jí)，充電電流控制和電路形式設(shè)置是OPPO在VOOC閃充技術(shù)方面的核心突破點(diǎn);相應(yīng)地，在創(chuàng)新點(diǎn)層級(jí)，圍繞核心突破點(diǎn)，重點(diǎn)挖掘出了相應(yīng)各技術(shù)分支的核心技術(shù)的創(chuàng)新點(diǎn)。從中我們可以清楚的看出OPPO基于VOOC閃充技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目的專利挖掘情況。
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